چین طی سال‌های گذشته تلاش داشته در ساخت تراشه‌های پیشرفته فاصله خود را با کشورهای پیشرو کم کند و در این زمینه تا اندازه‌ای موفق بوده است. اما طبق اسناد رسمی، شرایط در ساخت تجهیزات تراشه سازی متفاوت است و خطوط تولید پیشرفته چین به طور کلی به تجهیزات وارداتی متکی است.
به گزارش WCCFtech، بر اساس اسناد بارگذاری شده در وبسایت وزارت صنعت و فناوری اطلاعات چین، با محدودیت‌های جدید اعمال شده بر واردات تجهیزات ساخت ASML که شرکت‌های چینی را ملزم به دریافت مجوز از دولت هلند می‌کند، این کشور در حال توسعه تجهیزات بومی لیتوگرافی با فناوری DUV است.
از آنجا که ساخت تجهیزات پیشرفته تولید تراشه در انحصار رقبای این کشور است، ساخت دستگاه‌های لیتوگرافی بومی می‌تواند وابستگی چین به واردات این تجهیزات را کاهش دهد. اسناد دولتی چین سه ویژگی مهم دستگاه مورد اشاره یعنی رزولوشن، طول موج و معماری آن را افشا کرده است. دستگاه لیتوگرافی چینی از یک لیزر آرگون فلوراید استفاده می‌کند که از عمر آن در صنعت تراشه‌سازی بیش از ۲ دهه می‌گذرد.
دستگاه چینی از نور با طول موج ۱۹۳ نانومتری استفاده می‌کند و می‌تواند برای ساخت تراشه‌هایی با دقت کمتر از 65 نانومتر به کار گرفته شود. نزدیک‌ترین دستگاه ASML با این مشخصات TWINSCAN XT:1450K است که در سال 2009 معرفی شده است.
نکته حائز اهمیت آن است که به دنبال محدودیت‌های تجاری وضع شده بر چین، این کشور در مورد به اشتراک‌گذاری پیشرفت‌های خود در فناوری‌های حیاتی از جمله تراشه‌سازی و ابررایانه‌ها بسیار محتاطانه‌تر می‌کند و مشخص نیست دستگاهی که در اسناد وزارت صنعت این کشور به چشم می‌خورد پیشرفته‌ترین دستگاه‌های در اختیار این کشور باشد.
در همین رابطه بخوانید:
– تجهیزات EUV که هیچ، چین برای خرید دستگاه‌های لیتوگرافی قدیمی‌تر هم باید از دولت هلند اجازه بگیرد
– آیا چین در رقابت برای ساخت قوی‌ترین ابررایانه از آمریکا جلو زده است؟
– سرمایه گذاری چین در صنعت ساخت تراشه از مجموع کره جنوبی، آمریکا و تایوان بیشتر است
با این وجود به نظر می‌رسد تحریم فروش تجهیزات لیتوگرافی DUV به چین می‌توان وقفه‌ای جدی در برنامه‌های این کشور برای توسعه فرایند‌های ساخت کوچک‌تر از ۳ نانومتر ایجاد کند.
source